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芯片生產(chǎn)無(wú)法離開(kāi)的超純水是如何制備的?

  現(xiàn)如今,信息技術(shù)加速迭代發(fā)展,電子芯片的發(fā)展成為了各界關(guān)注的焦點(diǎn)。隨著我國(guó)越來(lái)越多的產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)離不開(kāi)芯片,人們開(kāi)始認(rèn)識(shí)到芯片生產(chǎn)的重要性,而芯片的生產(chǎn)離不開(kāi)超純水,今天我們就來(lái)介紹芯片生產(chǎn)需要超純水是如何制備的。

超純水設(shè)備
超純水設(shè)備

  據(jù)了解,一顆芯片要經(jīng)過(guò)幾十道工藝技術(shù),每一道工藝或許都是代表著高科技水平,因此芯片在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)于用水水質(zhì)的要求是非常高的,水中的雜質(zhì)對(duì)芯片的影響非常大。而超純水是指電阻率達(dá)到18 MΩ·cm的水,這種水中除了水分子外,幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì),完全滿足芯片生產(chǎn)用水需求。

  那么,傳統(tǒng)的超純水制備工藝通常是采用離子交換樹(shù)脂進(jìn)行制取,但采用離子交換樹(shù)脂通常需要定期進(jìn)行樹(shù)脂再生,即耗費(fèi)物力又浪費(fèi)人工。目前,市面上主要采用的反滲透技術(shù)、EDI技術(shù)和拋光混床技術(shù)來(lái)制備超純水,該工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有抗污染能力強(qiáng)、節(jié)能環(huán)保、產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內(nèi)無(wú)死水等優(yōu)勢(shì)。

  使用萊特萊德沈陽(yáng)水處理公司超純水設(shè)備可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制,從某種程度上而言,可以有效的達(dá)到我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),具有自動(dòng)化程度高,過(guò)程易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制,產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定等優(yōu)勢(shì)。

  綜上,隨著芯片研發(fā)技術(shù)的加快,我國(guó)要做的就是擺脫芯片進(jìn)口依賴,加強(qiáng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,為未來(lái)芯片技術(shù)的發(fā)展打好堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

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